麻省理工科技评论-07&08.2026

麻省理工科技评论-07&08.2026

ASML推出单价4亿美元高NA EUV光刻机，可制造8纳米晶体管，垄断先进光刻设备；美国对华实施设备出口限制，中国、海外初创企业探索替代光刻路线，同时AI算力激增推高高端芯片需求。平流层太阳地球降温工程进入工程验证阶段；数据中心耗电过载，柔性负载调度软件成为电网减负关键；固态空调多种技术路线研发，但短期难以全面替代传统压缩机设备。

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